健康资讯 【南大光电是真正的科技龙头】
南大光电率先获得科技突破和科技成果，为国产光刻胶产业化进程做出了重大贡献，是该领域的领军企业也是行业中的佼佼者。因此，南大光电不仅仅只是半导体材料光刻胶龙头，而是A股中真正的科技龙头！
南大光电昨晚公告，公司承担的国家科技重大专项（02专项）“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目，今日收到项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。
根据公告，国家验收专家组认为，通过本项目的实施，掌握了ArF干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术。ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等）。
1、光刻胶是集成电路生产过程中的关键材料，通过本项目的实施，掌握了ArF 干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术，在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。形成了由 51 人组成的 ArF 光刻胶研发与生产管理团队，建成了 ArF 光刻胶产品（包括干式和浸没
式）的质量控制平台、年产 5 吨的干式 ArF 光刻胶及年产 20 吨的浸没式 ArF
光刻胶产业化生产线；建立了科研经费管理相关的财务制度，并能有效执行；
申请专利 91 项，其中国内发明专利 81 项，国际发明专利 4 项，实用新型专利
6 项（已授权），制定团体标准 3 项，研制新产品 2 项；实现 ArF 光刻胶产品销
售，完成了任务合同书规定的主要考核指标。这是我国集成电路关键材料自主创新的一个重要成果。
2、宁波南大光电已建成年产 25 吨 ArF 光刻胶产业化基地，具备进一步扩大生产的能力，建议抓住机遇，尽快扩产。
同时，南大光电也在互动易上回复称，公司ArF光刻胶产品开发和产业化项目，目前已完成25吨光刻胶生产线建设，主要先进光刻设备，如ASML浸没式光刻机等已经完成安装并投入使用。购买的ASML浸没式光刻机可以满足90nm以下技术节点的制造工艺及193nm光刻胶的检测要求。
公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为我国通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，实现了从零到一的重大突破。
除光刻胶之外，公司生产的MO源产品用于LED芯片外延生长，主要供货给国内LED芯片制造企业，部分MO源产品是用于生产氮化镓（第三代半导体材料）的原材料。
公司将MO源和ALD、CVD前驱体业务整合成先进前驱体业务，并与电子特气、光刻胶及配套材料业务形成三大板块。
电子特气板块主要包括氢类电子特气产品和含氟电子特气产品。氢类电子特气领域，磷烷、砷烷作为技术壁垒最高的两种，公司成功实现突破并且纯度能够达到6N级别，达到世界先进水平。不仅在LED行业市场份额持续增长，在集成电路行业也快速实现了产品进口替代，目前占据国内市场份额达75%以上。
公司电子特气客户涵盖台积电、中芯国际、京东方等集成电路和面板领域的一线厂商，并进入英特尔、欧司朗、飞利浦等一流公司供应商名录。
值得注意的是，南大光电子公司宁波南大光电刚获大基金二期增资1.83亿元。
需求方面，国内中芯国际、长江存储、合肥长鑫等多家国内晶圆厂积极扩产，国内光刻胶需求量远大于国产产量且差额连年增长，尤其在ArF、高端KrF等半导体光刻胶方面，光刻胶作为“卡脖子”产品国产替代需求迫切。公司引入大基金二期，不仅可以扩充资金实力，也有利于增强公司与国内半导体设备、芯片制造头部企业的协同，从而加速公司光刻胶业务的发展。
科技——大国脊梁！北方华创、国民技术已飞上九天揽月！唯南大光电刚刚龙出深渊！尚是犹抱琵琶半遮面！但这个“国家科技重大专项”已经确立了南大光电的重要地位，已然是我大A科技板块中未来能够匹克美帝顶级风口！
